特点：
1．石英坩埚可在1650度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。
2、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。
3．石英坩埚适于用K2S2O7，KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。
4．石英质脆，易破，使用时要注意。
5．除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。
注意事项：
1、用后放置干燥处，切忌雨水侵入；使用前须缓慢烘烤到500摄氏度方可使用。
2、应根据坩埚容量加料，忌挤得太紧，以免金属发生热膨胀胀裂坩埚。
3、取出金属熔液时，最好用勺子舀出，尽量少用卡钳，若用卡钳等工具应与坩埚形状相符，避免局部受力过大而缩短使用寿命。
4、坩埚使用寿命与用法有关，应避免强氧化火焰直接喷射到坩埚上，而使坩埚原料氧化短命。
特点：
1．石英坩埚可在1650度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，是发展大规模集成电路必不可少的基础材料。
2、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐反应。
3．石英坩埚适于用K2S2O7，KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。
4．石英质脆，易破，使用时要注意。
5．除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。
注意事项：
1、用后放置干燥处，切忌雨水侵入；使用前须缓慢烘烤到500摄氏度方可使用。
2、应根据坩埚容量加料，忌挤得太紧，以免金属发生热膨胀胀裂坩埚。
3、取出金属熔液时，最好用勺子舀出，尽量少用卡钳，若用卡钳等工具应与坩埚形状相符，避免局部受力过大而缩短使用寿命。
4、坩埚使用寿命与用法有关，应避免强氧化火焰直接喷射到坩埚上，而使坩埚原料氧化短命。
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